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Die ETUDE Soon Jung Sheet Mask Panthensoside ist eine hypoallergene Tuchmaske, die speziell entwickelt wurde die Hautbarriere zu stärken und empfindlicher und gereizter Haut beruhigende Feuchtigkeit zu spenden.
Mit beruhigendem Panthenol und Centella Asiatica-Extrakt, lindert diese Tuchmaske Hautirritationen, Rötungen und spendet intensiv Feuchtigkeit. Die ultra-dünne, hypoallergene Baumwollmaske passt sich perfekt an dein Gesicht an und sorgt für eine angenehme Trageerfahrung. Genieße eine erfrischte, ausgeglichene Haut und einen gesunden Glanz und erlebe ein strahlendes Hautbild.
Für welchen Hauttyp ist die Soon Jung Sheet Mask Panthensoside geeignet
Die Soon Jung Sheet Mask Panthensoside ist besonders für empfindliche Haut geeignet.
Aktive Inhaltsstoffe
Panthenol: Auch als Provitamin B5 bekannt, hat Panthenol eine beruhigende und feuchtigkeitsspendende Wirkung auf die Haut. Es hilft, die Haut zu hydratisieren, Irritationen zu reduzieren und die Hautbarriere zu stärken.
Madecassoside: Besitzt stark beruhigende Eigenschaften, die dazu beitragen, Hautirritationen zu lindern und die Hautregeneration zu fördern.
Centella Asiatica-Extrakt: Wirkt beruhigend und regenerierend auf die Haut und spendet viel Feuchtigkeit.
Betaine: Ist in der Hautpflege für seine feuchtigkeitsspendende Wirkung bekannt und hilft dabei, die Haut mit Feuchtigkeit zu versorgen und sie geschmeidig zu halten. Es trägt außerdem dazu bei die Hautbarriere zu stärken und sie vor äußeren Reizen zu schützen.
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Lege die Tuchmaske auf das zuvor gereinigte und mit Toner behandelte Gesicht. Entferne die Maske nach 15 – 20 Minuten und klopf die restliche Essenz sanft in die Haut ein.
Water, Dipropylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Panthenol, Madecassoside, Centella Asiatica Leaf Extract, Carbomer, Polyglyceryl-10 Laurate, Glycerin, Polyglyceryl-10 Myristate, Allantoin, Arginine, Trehalose, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA